TL-LFA – Linseis

Nell’era della nanotecnologia, sempre più settori e utenti richiedono dati di misurazione precisi per strati molto sottili.
L’industria dei semiconduttori con prodotti tipici come diodi ad emissione luminosa (LED), memorie a cambiamento di fase o schermi piatti ha la domanda maggiore.
Spesso vengono depositati più strati di materiali diversi su un substrato per creare un componente con una funzione specifica.

Poiché le proprietà fisiche dei film sottili solitamente differiscono da quelle di un materiale solido, la loro caratterizzazione è essenziale per la progettazione e l’ottimizzazione della gestione termica.

Basato sulla comprovata tecnologia laser flash, il Laserflash Linseis per film sottili (TF-LFA) offre ora una vasta gamma di nuove possibilità per analizzare i dati dei materiali di film sottili con uno spessore da 10 nm a 20 µm.